- Vacuum transfer
- Wafer movement
- Pressure control
- Contamination reduction
- Load/unload interface
- Repeatable flow
Description
La SIASUN Diagram 600 Vacuum Transfer Platform permet le déplacement des wafers entre les interfaces de chargement/déchargement et les modules de procédé sous vide. Elle maintient des conditions de pression contrôlées pour réduire la contamination.
Utilisée principalement pour le transfert de wafers à l'intérieur des équipements semi-conducteurs, au service de flux de production répétables.
La Diagram 600 est destinée aux applications de transfert sous vide dans les semi-conducteurs, la recherche et l'industrie.
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Fonctionnalités
Spécifications
Secteurs
SIASUN Vacuum Transfer Platform Diagram 600
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